Одной из новинок АФ№2 явились Compound layer masks, составные маски, как это перевели. Небольшая справка о работе с ними присутствует в Help приложения (к сожалению ссылка в сети до сих пор нерабочая, но на всякий случай укажу откуда можно попробовать посмотреть). Описание работы сего новшества довольно поверхностно. Дополним то, до чего не «дошли руки» у авторов программы (скорее даже авторов Help-а, не программы – будем справедливы) : взаимодействием масок внутри Compound layer. Прежде всего сложением/вычитанием.
Разобранные в «инструкции к применению» примеры использования данных операций находятся как правило в разделах по работе с векторными фигурами и используют логические операции сложения-вычитания-пересечения-исключения. Маски могут иметь частичную непрозрачность, то есть значения непрозрачности между 0 и 1, где существует множество градаций, поэтому эта логика требует определённого дополнения. Для понимания же относительно взаимодействия масок в Compound layer, рассмотрим этот вопрос именно в логике 0 и 1.
Итак,
Режим Add:
В итоговой Compound layer masks имеем сумму от сложения (add) масок.
Режим Subtract:
В итоговой Compound layer masks присутствует разность от вычитания (Subtract) верхней маски из нижней. В отличие от сложения, где от перемены мест слагаемых сумма не меняется, при вычитании результат от перемены мест различен.
Режим Intersect :
В итоговой Compound layer masks имеем результат пересечения масок.
Режим XOR(Exclude) :
В итоговой Compound layer masks создаётся объект, вырезанный из области пересечения исходных объектов; иными словами, на месте пересечений остаются дырки.
Последние два режима Intersect и XOR, мне кажется, (может быть я и не прав) сравнительно сложны, а главное не очень практичны для работы с масками при обработке фото, вероятно они больше пригодятся дизайнерам и т. д. С режимами сложения-вычитания работать ощутимо проще и предсказуемо по конечному результату. Плюс к этому возможно использовать операцию инвертирования, что ещё больше расширяет возможности использования Compound layer masks.
Перейдём к полупрозрачностям-полутонам. Конструкция следующая:
Квадратики на нижней и верхней масках имеют яркости соответственно 32-64-96-128-160-192-224.
Места наложения нижних и верхних квадратиков имеют яркость (речь идёт данном контексте о прозрачности маски) равную простой сумме яркостей нижних и верхних квадратиков:
32+32=64,
64+64=128,
128+128=255 (больше быть не может, маска в данном случае будет белая, то есть прозрачная),
160+160=192+192=224+224= 255
На одной из масок для проверки были добавлены три кружочка с яркостью равной сумме двух квадратиков. Проверка подтвердила выводы.
Режим Intersect :
Режим XOR(Exclude) :
Ещё раз выскажу своё субъективное мнение: последние два режима для обработки фото избыточны, достаточно сложения-вычитания.
Я помню, что забыл, забыл о вычитании. Глупо было бы вычитать одинаковые яркости друг из друга, поэтому мы инвертируем нижние квадратики (перевернём квадратики вокруг средней128 яркости) и наложим друг на друга в режиме вычитания.
Места наложения нижних и верхних квадратиков имеют яркость (речь идёт данном контексте о прозрачности маски) равную разности яркостей нижних и верхних квадратиков:
224-32=192
192-64=128,
160-96=64,
128-128=0 (меньше быть не может, маска в данном случае будет чёрная, то есть непрозрачная),
96-160=64-192=32-224= 0
Ещё раз повторю: subtract – единственный режим, при котором перемена мест масок влияет на результат.
В общем всё. Не хотелось бы углубляться в детали и взаимосвязи масок и итоговых изображений и т.д., усложняя материал. Самым смелым и отважным могу предложить материал Непрозрачность кисти как режим наложения.